Metallo–organic CVD
Technika MOCVD je poměrně mladá. První publikace se objevily v šedesátých letech minulého století. Jak název napovídá, jako prekurzory se používají organokovové látky.
Obr. 1 Příklady organokovových sloučenin
Tato metoda nachází uplatnění převážně v polovodičovém průmyslu. V této oblasti jsou velmi přísné požadavky na čistotu, proto je nutné aby prekurzory splňovali následující podmínky:
- musí být těkavé
- mezi vypařováním a dekompozicí musí být dostatečně velký rozdíl teplot
- dekompozice prekurzoru musí probíhat čistě – vedlejší produkty nesmí kontaminovat vzniklý film
- dekompozice musí probíhat při rozumně nízké teplotě
- látka musí být stabilní v roztoku, aby ji šlo dopravit do reaktoru
- snadná příprava (dobrý výtěžek, čistota, cena)
Bohužel najít prekurzor, který by splňoval všechny podmínky je obtížné.
Máte dotaz nebo podnět k článku? Napište mi
FORMÁT PRO TISK
Poslední změna:
07.05. 2006 21:23