CVD iniciovaná laserem

Laser je koherentní, monochromatický svazek fotonů o vysoké energii.[1],[2]  CVD iniciovaná laserem využívá tepelné energie, která se uvolní po dopadu paprsku na substrát. Substrát se lokálně zahřeje na vysokou teplotu a depozice probíhá pouze na malé ploše, kterou dokáže paprsek zahřát.

Tato metoda je zatím ve fázi vývoje.

Příklady testovaných systémů

Materiál Prekurzor Tlak Laser (nm)
Hliník Al2Me6 10 Torr Kr (476–647)
Uhlík C2H2, C2H6, CH4 Ar–Kr (488–647)
Zlato Au(acac) 1 Torr Ar
Křemík SiH4, Si2H6 1 atm Ar–Kr (488–647)
Wolfram WF6, H2 1 atm Kr (476–647)

Předpokládané využití

Možné využití této metody je při depozici velmi malých vzorů (0,5 µm) v polovodičovém průmyslu nebo při výrobě SiC vláken.

Přidat komentář

0 Komentáře.

Přidat komentář


Upozornění - Můžete použít tytoHTML tags and attributes:
<a href="" title=""> <abbr title=""> <acronym title=""> <b> <blockquote cite=""> <cite> <code> <del datetime=""> <em> <i> <q cite=""> <strike> <strong>