CVD

CVD – chemická depozice z plynné fáze – je metoda vhodná pro přípravu tenkých filmů, prášků, vláken atd. V dnešní době jde o velmi důležitý proces v mnoha odvětvích průmyslu (polovodičovém, optickém, optoelektronickém, …).

CVD můžeme definovat jako depozici pevné látky, získané reakcí v plynné fázi, na vyhřívaný substrát. Patří do skupiny transportních procesů probíhajích v plynné fázi (vapor–transfer process).

Důležitost a široký rozsah působnosti této metody lze dokumentovat těmito příklady praktického využití:

  • Diamond-like uhlíkové vrstvy vyráběné plasma–CVD. Tyto materiály se využívají např. v textilním průmyslu, protože zvyšují odolnost textilu.
  • Povlaky z karbidu titanu a nitridu titanu pro uhlíkové součástky. Silně zvyšují odolnost proti otěru.
  • Iridium, deponované pomocí MOCVD, zvyšuje odolnost raketových trysek vůči korozi při teplotách nad 2 000 °C.
  • Pokovení polovodičů mědí minimalizuje elektromigraci. CVD je nyní hlavním výrobním procesem pro polovodičové součástky.
  • Vlákna z nitridu bóru jsou extrémně pevná. Proto se používají pro posílení konstrukce letadel.

Další kapitoly

One thought on “CVD

  1. Pingback: Nejmenší tranzistor – Blog a web o chemii, elektronice a programování

Leave a Reply