MPCVD – Microvawe Plasma-assisted CVD

MPCVD – CVD v přítomnosti mikrovlnného plasmatu je poměrně nová metoda pro přípravu syntetických diamantů. Využívá plyny obsahující uhlík, hlavně methan (CH4), jako zdroj uhlíku. Rozklad prekurzoru a depozice diamantových vrstev probíhá působením plazmatu generovaného vyskofrekvenčními (nejčastěji 2,45 GHz) mikrovlnami s vysokým výkonem (řádově v kW). Jako substrát se často využívají klasické křemíkové wafery (100), které jsou během depozice zahřívány na teplotu 800-1000 °C.

Schéma MPCVD aparatury

Schéma MPCVD aparatury

Ukázku aparatury pro MPCVD přípravu diamantů můžete vidět v tomto videu:

Odkazy

  1. Single Crystal Diamonds grown by MPCVD technique outperform others
  2. Growth of Diamond by MPCVD Process

Další kapitoly