Teoretici z Riceovy univerzity objevili novou metodu, která by mohla usnadnit přípravu borofenu, 2D modifikace boru. Zatím je pouze teoretická, ale mohla by mít v budoucnu velké uplatnění.[1,2]
Borofen je borový analog grafenu, vrstva tvořená atomy bóru o tloušťce jednoho atomu.[3] Standardně se připravuje depozicí atomů boru na povrch kovu, např. Ag(111),[4] Au(111), Cu(111) nebo Ir(111) v ultravysokém vakuu.
Nová metoda ukazuje, že výhodnější bude využití hexagonálního nitridu boritého (hBN) jako substrátu pro růst borofenových vrstev. Růst vrstvy probíhá na okrajích schodků na povrchu hBN substrátu.
Výhodou tohoto přístupu je pouze slabá interakce mezi substrátem a borofenem. To usnadní izolaci produktu.
Jako substrát byl testován i grafen, ale tam výpočty ukazují, že by umožňoval spíše tvorbu izolovaných atomů nebo dvojic atomů boru, ne tvorbu borofenové vrstvy.